製品情報

アルミナスパッタ装置 TADERIS
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  • データストレージ

メーカー Singulus Technologies AG

  • 高スパッタレート:6.0μ/h
  • 高スループット:6ウェハ/h
  • パルスDCウェハガス冷却採用
  • 酸化処理用ECWRプラズマソース搭載
  • 膜厚モニター搭載
  • TS間可変機構
  • ウェハテーブル可変回転機構
  • 8”(200mm)までのウェハ対応(大幅な改造なしにサイズ変更可能)
  • ウェハテーブル上でRF-Etch及びRF-Bias対応