太陽電池用PECVD成膜装置 GENERIS PECVD
SINGULUSTECHNOLOGIES社はGENERIS PECVDシステムにおいて最高の効率を備えた最先端の結晶シリコン太陽電池の大量生産 における特別なニーズに柔軟に対応します。
GENERIS PECVDを使用すると、真空処理の ままウェーハの両面に蒸着できます。
AlOxとSiNxの両方のプロセスの適用は、 ガス分離チャンバーの助けを借りて1つのシステムで対応します。
GENERIS PECVDの機能
- 1時間あたり最大6,000枚の ウェーハのスループット
- パッシベーション、反射防止、 保護層の堆積
- 典型的なプロセス：SiNx、SiOx、AlOx、a-Si、poly-Si、 及びプラズマ酸化物
- 高速リニアICPソース
- 層の特性に応じて、最大100 nm * m / minの動的堆積速度
- 堆積前および堆積中の完全な温度制御
- PERC350°Cの場合、標準的な基板温度180〜550°C
- キャリア リターン システム（CRS）が統合された信頼性の高い水平基板輸送システム
- 真空状態による搬送システムによりパーティクルの発生無し
- 様々な基板サイズ（M2〜M12）キャリアへの対応
一般的なウェーハの厚さ120〜200 µm - キャリアあたり64枚のウェーハ対応
（M2からM6）のキャリア、キャリア材料CFC - 自動ウェーハロードおよびアンロード
- 全コーティング幅約 1.4メートル
- 層の均一性‹基板上およびキャリア間で+/- 5％