スパッタ装置 ROTARIS
- 独自技術のRotating Substrate Module (RSM) を用い、最大12個のカソードを装着でき、 100mmφのカソードで、200mmφウェハに均一な成膜が可能
- 共スパッタ、DC、RFスパッタの併用など、様々スパッタリングプロセスを1つのシステムで実現
- 半導体薄膜、磁性薄膜などの極薄膜を制御可能
- 応用分野
HDD:TFH (Reader/Writer)
MRAM / STT-RAM / P-MTJ
Sensors xMR
Bio sensor
MEMS