表面加工(ソーラーセル)装置一覧
ここにないものも弊社にて特注品として設計、製造をしております。
詳しくは 特注・カスタム対応 をご確認下さい。
ソーラーセルへの表面加工装置
PVD成膜装置 GENERIS PVD
安定した成膜プロセスに対応するPVDスパッタリング装置
太陽光発電をはじめデータストレージ・センサー技術・装飾コーティング分野で使用されるほか、水素・バッテリー・自動車・電気シールドなど多様な先端分野に対応する高性能成膜装置です。
太陽光発電ではTCOや金属材料の成膜に対応し、両面スパッタリングや高精度な温度制御により高品質・高スループットを実現します。
低所有コストと高稼働率を両立した量産対応プラットフォームです。
PECVD成膜装置 GENERIS PECVD
高効率セル製造ライン向けのモジュール式PECVD装置
ICPおよびCCPプラズマ源を採用したモジュラー式水平インライン成膜装置です。
低ダメージかつ高成膜速度を実現し、PERC、TOPCon、HJTなど高効率結晶シリコン太陽電池や、GaAs多接合太陽電池の高品質機能層形成に対応しております。
広いプロセスウィンドウと量産適性を備え、宇宙用途を含む先端PV製造に最適です。
太陽電池用ウェットプロセス装置 SILEX Ⅱ & SILEXⅢ CLEANTEX
均一洗浄と低薬液消費で生産効率を高めるウェット処理装置
太陽電池向けウェットプロセス装置です。
均一な洗浄性能と低薬液消費を特長とし、高い生産効率を実現します。
完全自動化されたドライイン／ドライアウト方式により、各アプリケーションに最適化された信頼性の高い湿式表面処理を提供します。